Halocarbon 116 газов 99,9% очищенности полупроводника изготовляя электронный

Halocarbon 116 очищенности 99,9% используемый как разностороннее Etchant в производстве полупроводника

Описание:

Во-первых, утечка C2F6 наполняет газом аварийную обработку: дыхательный аппарат носки сдержанный, нося формы. Отрезок источник газа. (Крытый) или сильная вентиляция (на открытом воздухе). Пропускающий влагу контейнер можно больше не не использовать и подлежат, что техническое удаление извлекает любой остальной газ.
Во-вторых, предохранительные меры:
Дыхательная защита: Когда концентрация воздуха высока, вы должны нести маски противогаза. В случае аварийного спасения или опорожнения, целесообразно нести сдержанный дыхательный аппарат.
Предохранение от глаза: вообще не нужна особенная защита.
Предохранение от тела: несите прозодежды.
Предохранение от руки: вообще не нужна особенная защита.
Другой: Избегите высокой концентрации вдыхания.
В-третьих, измерения скорой помощи
Вдыхание: от сцены к свежему воздуху. Затруднения вдоха к кислороду. Когда дышать останавливает, примите искусственное дыхание немедленно. Медицинское лечение.
Противопожарный метод: отрезок источник газа. Распылите воду для того чтобы охладить контейнер, если возможный, двиньте контейнер от огня к открытому

Спецификации:

1. Физические свойства

2. типичные технические данные

Применения: