Электрические газ очищенности 99,95% газа C4F6 вытравляя для обработки полупроводника

C4F6 газ очищенности 99,95% вытравляя для обработки полупроводника

Описание:

газ сухой вытравлять hexafluoro-1,3-butadiene (C4F6) он начинало в России. C4F6 включает сухое вытравливание на линии ширине как узкой как 90 nm или более менее. Оно поэтому непременн для системы обработки LSIs и высокоскоростных, крупнотоннажных запоминающих устройств которая все больше и больше использованы в цифровых электрических приборах и жидкокристаллических дисплеях.

Газы перфторуглеводорода широко использованы для обработки фильма окиси кремния. Сравненный с octafluorocyclobutane (C4F8) в настоящее время используемым для обработки на линии ширине 130 nm, C4F6 имеет следующие преимущества:

СТАНДАРТНЫЙ ПАКЕТ INFORMATION-ASIA И СЕВЕРНАЯ АМЕРИКА

Применения:

1. Оно может использовать в основанном на фтор вытравливании.

2. Оно также может использовать в очищая газах,

3. C4F6 может использовать как металлоорганический фильм формируя газы,