Плазма газа C4F6 99,995% особой чистоты основанная на Перфторуглеводород вытравляя бесцветный газ

Особая чистота C4F6 gas99.995%, польза в основанном на Перфторуглеводород вытравливании плазмы

Описание:

Газ сухой вытравлять HFB, C4F6 он начинало в России. C4F6 включает сухое вытравливание на линии ширине как узкой как 90 nm или более менее. Оно поэтому непременн для системы обработки LSIs и высокоскоростных, крупнотоннажных запоминающих устройств которая все больше и больше использованы в цифровых электрических приборах и жидкокристаллических дисплеях.

Газы перфторуглеводорода широко использованы для обработки фильма окиси кремния. Сравненный с octafluorocyclobutane (C4F8) в настоящее время используемым для обработки на линии ширине 130 nm, C4F6 имеет следующие преимущества:

коэффициент сжатия 1.High, приводящ в узких и глубоких пазах (соответствующих для обработки на очень узкой линии ширина)

селективность 2.High (обеспечивает вытравливание фильма окиси кремния только; не влияет на фоторезист, субстрат кремния или фильм нитрида)

ПРОТИВОПОЖАРНЫЕ ИЗМЕРЕНИЯ

ДОВРАЧЕБНЫЕ ИЗМЕРЕНИЯ

Применения:

1.C4F6 может использовать как металлоорганический фильм формируя газы,

2. Газ HFB (C4F6) может использовать как агенты чистки, отход-газ обрабатывая скрубберы